日本b,c,RGO/Cu(b)和3D-GLNN/Cu(c)的原位拉伸样品断裂裂纹宏观形貌SEM照片。

所制得MoS2单层薄膜的(e)拉曼光谱,(f)原子力显微镜图片，乒乓(g)荧光光谱以及(f)HAADF-STEM图片。球队反应残余物的(e)XRD谱和(f)拉曼光谱。

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使用MoO3-S制备的MoS2样品通常会具有比较复杂的化学成分，日本不同形貌和成分的物质分级分布于衬底的不同位置。本文采用的实验装置与传统CVD生长方法几乎完全一致，乒乓只是在Mo源上方覆盖了一层致密的惰性氧化物抑制层以调控Mo蒸汽的释放。

球队图1.(a)氧化物辅助的MoX2生长示意图。

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